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研究生: 林思宏
論文名稱: 鎳/鈷/鉑(111)超薄膜的表面結構及合金形成探討
指導教授: 沈青嵩
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 物理學系
Department of Physics
論文出版年: 2003
畢業學年度: 91
語文別: 中文
論文頁數: 86
中文關鍵詞: 低能電子繞射紫外光電子能譜術歐傑電子能譜
英文關鍵詞: LEED, UPS, AES, Pt
論文種類: 學術論文
相關次數: 點閱:177下載:6
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  • 我們利用歐傑電子能譜(Auger Electron Spectroscopy, AES)、低能電子繞射(Low Energy Electron Diffraction, LEED)、以及紫外光電子能譜術(Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy, UPS)來深入探討鎳超薄膜鍍於 1ML Co / Pt(111) 的成長模式以及在高溫形成合金時的成份、結構變化。
    室溫下,鎳薄膜鍍於1ML Co / Pt(111)的成長模式為兩層平整成長之後再以三維島狀的S. K mode。由AES、LEED均能得到相同的結論。
    x ML Ni / 1 ML Co / Pt(111) 系統 (x=0.5、1、2、3)在升溫的過程中,鈷、鎳原子會在440K先形成混合態,隨著溫度的升高鈷、鎳原子均會往白金擴散,隨著鎳厚度的增加,鈷、鎳混合層往白金擴散的溫度也隨之增加。當鎳層數為0.5ML、1ML、2ML、3ML時,開始擴散的溫度分別為550K、580K、600K、620K。
    在1ML Ni / 1ML Co / Pt(111)系統在經過退火效應後,LEED繞射圖形在580K前為(1×1)周圍有六角衛星點,超過580K時六角衛星點便會消失,而在650K時(1×1)周圍又出現了更小的三對稱的六角衛星點,700K時在每個(1×1)主繞射點周圍繞射點只能看到其中三個小衛星點,800K時衛星點又再次消失,為(1×1)的繞射亮點。
    從離子濺射的深度分析中,我們發現1ML Ni / 1ML Co / Pt(111)經過750K的退火效應後,鎳原子擴散比鈷原子還要深,而表面則以Co、Pt兩種原子為主。
    UPS以及I-V LEED分析中,系統在升溫至580K以上,皆出現明顯的變化,此與AES中鈷、鎳往白金擴散的溫度相呼應。

    目錄 第一章 緒論..................................................1 第二章 儀器設備與工作原理....................................6 2-1 樣品的清潔與製備.........................................6 2-1-1 超高真空系統...........................................6 2-1-2 樣品的清潔.............................................9 2-1-3 樣品的升降溫系統.......................................9 2-1-4 樣品的蒸鍍設備.........................................11 2-2 歐傑電子能譜術...........................................12 2-2-1 歐傑效應與電子能譜.....................................12 2-2-2 同心半球型能譜分析儀...................................15 2-2-3 電子能譜的分析.........................................17 2-2-4 歐傑電子能譜的應用.....................................19 2-3 低能電子繞射儀...........................................25 2-3-1 反商晶格與電子繞射.....................................25 2-3-2 LEED的工作方式.........................................29 2-3-3 LEED所傳達的表面訊息...................................31 2-3-4 I-V LEED...............................................34 2-4 紫外光電子能譜術.........................................36 2-4-1 由光電效應到紫外光電子能譜.............................36 2-4-2 紫外光源的產生.........................................38 第三章 實驗結果與討論........................................40 3-1 樣品的準備...............................................40 3-1-1 樣品的清潔.............................................40 3-1-2 鈷鍍源的刻度...........................................41 3-1-3 鎳鍍源的刻度...........................................41 3-1-4 鎳在1ML Co / Pt (111)上的成長模式......................42 3-1-5 LEED的測量結果.........................................44 3-1-6 成長模式的討論..........................................46 3-2 利用AES觀測 x ML Ni / 1ML Co / Pt (111) 的合金形成.......47 3-2-1 x ML Ni / 1ML Co / Pt (111) 的成金形成.................47 3-3 利用LEED觀測 1 ML Ni / 1ML Co / Pt (111)系統.............61 3-3-1 觀測 1 ML Ni / 1ML Co / Pt (111) 的成金結構............61 3-3-2 I-V LEED求1 ML Ni / 1 ML Co / Pt (111) 層距隨溫度變化..69 3-4 AES 配合離子濺射作深度分析...............................72 3-5 利用UPS 觀測1ML Ni / 1ML Co / Pt (111)...................75 3-5-1 以UPS檢驗升溫過程中電子組態的變化......................75 3-6 1 ML Ni / 1ML Co / Pt (111) 特殊結構的討論...............78 第四章 結論..................................................82 參考資料......................................................84

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