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研究生: 蔡萍實
CAI, PING-SHI
論文名稱: 低溫下鎳超薄膜在Pt(110)表面成長模式之研究
指導教授: 沈青嵩
Shern, Ching-Song
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 物理學系
Department of Physics
畢業學年度: 80
語文別: 中文
論文頁數: 72
中文關鍵詞: 鎳超薄膜成長模式
論文種類: 學術論文
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  • 130k的低溫下,將Ni鍍在Pt(110) 表面上,並以AES(Auger electron spectrum)和
    LEED(low eneryelectron diffraction) 等技術觀察Ni超薄膜的成長模式,及Ni在Pt
    表面上受熱造成的滲透作用。
    實驗時,分別以Pt(110) 的重構面(reconstruction)-(1×2) 和非重構面(
    unreconstruction)-(1×1)當襯底(substrate) 。當Ni鍍在(1×2)面上,由AES 測量
    所劃出之AST圖可判斷Ni在(1×2) 面上是先有一層的層成長後,再呈島狀不規則成長
    ,即所謂的SK mode;而LEED結果亦符合;並在蒸鍍約半層時,可看到繞射亮點由(1
    ×2)變為假性(1×1) 結構Pseudo-(1×1) ;而此相位變化應是Ni覆蓋層和Pt襯底層
    之排列產生Anti phase 效應所致,並推斷Ni是先填滿Pt(110) 表面的missing row
    sites ,即谷底(valley) 再繼續覆蓋其他位置。
    當Ni鍍在(1×1) 面,由於Ni和Pt之間的作用力影響,使得(1×1)表面結構破壞;故
    由LEED看到(1×1)LEED pattern 中亮點隨著蒸鍍時間而變暗;反之背景增強。而由
    AES 之結果得出Ni和Pt之AST 圖為圓滑曲線,無折線產生,可判斷Ni在(1×1)面上為
    島狀成長(VW mode)。
    將Ni以定量鍍在Pt(110)-(1×2)表面表,由130k加熱到800k發現620k以下,表面蒸鍍
    層無特殊變化。但在620k以上有Ni滲透(diffusion) 到Pt晶體內部(bulk)的現象發生
    到690k更明顯,加熱完後Ni/Pt 界面形成合金屬。

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