研究生: |
蔡萍實 CAI, PING-SHI |
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論文名稱: |
低溫下鎳超薄膜在Pt(110)表面成長模式之研究 |
指導教授: |
沈青嵩
Shern, Ching-Song |
學位類別: |
碩士 Master |
系所名稱: |
物理學系 Department of Physics |
畢業學年度: | 80 |
語文別: | 中文 |
論文頁數: | 72 |
中文關鍵詞: | 鎳超薄膜 、成長模式 |
論文種類: | 學術論文 |
相關次數: | 點閱:186 下載:0 |
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130k的低溫下,將Ni鍍在Pt(110) 表面上,並以AES(Auger electron spectrum)和
LEED(low eneryelectron diffraction) 等技術觀察Ni超薄膜的成長模式,及Ni在Pt
表面上受熱造成的滲透作用。
實驗時,分別以Pt(110) 的重構面(reconstruction)-(1×2) 和非重構面(
unreconstruction)-(1×1)當襯底(substrate) 。當Ni鍍在(1×2)面上,由AES 測量
所劃出之AST圖可判斷Ni在(1×2) 面上是先有一層的層成長後,再呈島狀不規則成長
,即所謂的SK mode;而LEED結果亦符合;並在蒸鍍約半層時,可看到繞射亮點由(1
×2)變為假性(1×1) 結構Pseudo-(1×1) ;而此相位變化應是Ni覆蓋層和Pt襯底層
之排列產生Anti phase 效應所致,並推斷Ni是先填滿Pt(110) 表面的missing row
sites ,即谷底(valley) 再繼續覆蓋其他位置。
當Ni鍍在(1×1) 面,由於Ni和Pt之間的作用力影響,使得(1×1)表面結構破壞;故
由LEED看到(1×1)LEED pattern 中亮點隨著蒸鍍時間而變暗;反之背景增強。而由
AES 之結果得出Ni和Pt之AST 圖為圓滑曲線,無折線產生,可判斷Ni在(1×1)面上為
島狀成長(VW mode)。
將Ni以定量鍍在Pt(110)-(1×2)表面表,由130k加熱到800k發現620k以下,表面蒸鍍
層無特殊變化。但在620k以上有Ni滲透(diffusion) 到Pt晶體內部(bulk)的現象發生
到690k更明顯,加熱完後Ni/Pt 界面形成合金屬。