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研究生： 王俊傑
論文名稱： 射頻磁控濺鍍法研製直接耦合高溫超導量子干涉元件磁量計與特性研究
指導教授： 楊鴻昌
Yang, Hong-Chang
洪姮娥
Horng, Herng-Er
學位類別： 碩士
Master
系所名稱： 光電工程研究所
Graduate Institute of Electro-Optical Engineering
論文出版年： 2010
畢業學年度： 98
語文別： 中文
論文頁數： 42
中文關鍵詞： 射頻磁控濺鍍 、釔鋇銅氧 、磁量計
論文種類： 學術論文
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    • 在磁控濺鍍的系統下，發現階梯高度跟薄膜厚度比會影響SQUID訊號的好壞。本實驗中在其他條件都盡量能控制在一定的範圍內，試了三種不同的高度比，發現三種比例中階梯跟薄膜的高度比1:0.9的Vpp有三個SQUID超過10 μV為最好。

    第一章 導論 5 第二章 超導量子干涉元件(SQUID)原理 7 2-1 約瑟芬元件原理 (Josephson junction) 7 2-2 直流式超導量子干涉元件 10 第三章 元件製程 14 3-1 階梯製作 14 3-1-1 曝光微影技術 15 3-1-2 乾式蝕刻 17 3-2 高溫超導薄膜的成長 20 3-2-1 射頻磁控濺鍍 20 3-2-2 薄膜電性的量測 23 3-2-3 薄膜表面Roughness的量測 24 3-3 磁量計元件的製作 24 3-4 電性量測系統 25 第四章 磁量計特性量測及分析 29 4-1 直接耦合式磁量計圖形設計 29 4-2 自感量計算 32 4-3 薄膜厚度對磁量計特性的影響 33 4-4 頻譜雜訊 39 第五章 結論 41 參考資料

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