本文係模擬單一微晶片在不同角度情況下的沸騰熱傳特性，及三片微晶片模組在不同
角度、不同間距情況下，微晶片彼此間沸騰熱傳特性的相互影響關係進行實驗分析。
本論文計分五章
第一章說明本研究目的、動機、方法、範圍及在微晶片電子熱傳研究方面的背。
照第二章為文獻方面的探討，第一節敘述池沸騰模式中的各階段，第二節列出與本研
究較為相關的沸騰關係式，第三節則針對影響本研究相關的因素作文獻上的探討，經
分析後決定實驗所用加熱片表面為５×５×０．０１㎜之Ｎｉ－Ｃｒ箔片，實驗冷卻
工質為Ｒ１１３冷媒。
第三章說明實驗系統的設計與佈置所用實驗設備、以實驗步驟，重點在於實驗所用加
熱模型的製作。
第四章將本研究之各項實驗結果作一分析與討論，大致上可分為單一加熱片及三片宜
線排列兩大類來討論，單一加熱片方面之討論對象為飽和沸騰狀態下，在不同角度時
之熱傳特性。三片直線排列加熱片部份主要討論之情況為：在飽和沸騰狀態下，三片
加熱片模組中，改變加熱片間距及角度時，對加熱片彼此間熱傳效果的影響程度。
第五章為對本研究所作實驗結果所下的結論：
一、單一加熱片時，加熱片角度改變會影響初期沸騰時的遲滯現象，且踰越溫度會隨
加熱片角度的增加而加。大在核沸騰階段，加熱片傾斜角度的增加會使熱傳效果略為
提，高但各角度間的影響程度並不大。
二、在三片加熱片模組中，在初期沸騰時，中間及頂部加熱片受底部加熱片的影響，
其熱通量及踰越溫度均有降低的現象，且此種降低的趨勢隨著模組角度傾斜度的增加
而更加明顯。 ﹒
三、在三片加熱片模組中，在核沸騰階段，各力熱片在較低熱通量時（ｑ約在１０Ｗ
‧
／ｃ㎡以上），模組傾斜角度越大熱傳效果越好。在較高功率的沸騰階段（ｑ約在Ｗ
／ｃ㎡以上），加熱片模組角度的改變對各加熱片熱傳效果的影響則較小。此外；在
實驗本範圍，內對同一角度而言，加熱片間距的改變對加熱片彼此在核沸騰區的熱傳
效果並無明顯影響。
四、對核沸騰熱傳而言加熱片表面朝下（亦即１８０°）的情況並不適合，因在此種
工況下加熱片的臨界沸騰熱通量會降低。單一加熱片時僅為２．５１Ｗ／ｃ㎡，而在
垂直擺放時（亦即９０°）則為１８．５Ｗ／ｃ㎡ 。