研究生: |
陳韋成 Wei-Cheng Chen |
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論文名稱: |
PQ/PMMA材料的備製與其暗反應特性之研究 A study on fabrication and dark-Effect of Phenanthrenequinone doped Poly(methy1 methacrylate)(PQ/PMMA) materials |
指導教授: |
謝美莉
Hsieh, Mei-Li |
學位類別: |
碩士 Master |
系所名稱: |
光電工程研究所 Graduate Institute of Electro-Optical Engineering |
論文出版年: | 2011 |
畢業學年度: | 99 |
語文別: | 中文 |
論文頁數: | 38 |
中文關鍵詞: | PQ/PMMA 材料製備 、材料製備 |
英文關鍵詞: | PQ/PMMA, material |
論文種類: | 學術論文 |
相關次數: | 點閱:121 下載:0 |
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本論文主要研究方向在探討PQ/PMMA材料製程,以及其光學特性量測。首先我們將介紹PQ/PMMA材料的製作流程,並製作出不同厚度的材料,接著架設兩道光干涉系統來記錄光柵於此材料中,並量測此材料的繞射效率與曝光能量之關係。此外,我們亦針對不同曝光能量與速率探討繞射效率的暗反應特性。
The main goal of this research is to fabricate the PQ/PMMA materials and measure its optical properties. First, we describe the fabricating procedure and produce some PQ/PMMA bulk materials with different thickness. Then, an optical interference system has been setup to measure the diffraction efficiency and dark-effect of the various expose energy.
[1]林俊華,”PQ/PMMA 感光高分子的體積全像儲存特性研究”,國立交通大學,碩士論文,民國92年。
[2]蕭義男,”以PQ為光吸收的感光高分子材料在全像光學儲存上的製備與特性研究”,國立交通大學,碩士論文,民國89年。
[3]P.Hariharan ,”Optical Holography”, amberidge University Press 1996
[4]Pochi Yeh “Introduction to Photorefractive Nonlinear Optics”, A Wiley-Interscience Publiccation